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PSEL勞厄衍射系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

該設(shè)備利用背衍射法探測材料的晶體結(jié)構(gòu)，常用于單晶定向、測定晶體對稱性、表征晶體的成晶質(zhì)量等

產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-10-27
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
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        該設(shè)備利用背衍射法探測材料的晶體結(jié)構(gòu)，常用于單晶定向、測定晶體對稱性、表征晶體的成晶質(zhì)量等。支持實時成像和累計曝光兩種工作模式，最長曝光時間達30分鐘，最短可至毫秒?？臻g分辨率高、用戶界面直觀。



┃ 設(shè)備特點


  • PSEL軟件定向誤差低至0.05度

  • 多晶硅片二維定向mapping

  • 大批量樣品篩選

  • 超20kg重負(fù)荷樣品定位

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