設(shè)備介紹：

小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

采用半導(dǎo)體級元件、金屬密封線和強大的PLC驅(qū)動用戶界面，可快速循環(huán)和高品質(zhì)的多組分薄膜，易于維護，可重復(fù)和安全運行。

技術(shù)參數(shù)：

·尺寸L*W*H:62.3*61*40cm(4英寸) 

·最高溫度可達315℃ 

·金屬密封管道(減少大氣污染的機會) 

·3種有機金屬源(可加熱至150°C)和2種氧化劑/還原劑源(伴熱套件可加熱至180℃的), 提供額外的共反應(yīng)物選件

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進行集成惰性氣體吹掃-標(biāo)配 

·適用于4英寸、6英寸、8英寸基板，并提供可選的定制卡盤夾具(大的和多腔室(3片以上晶圓)可用)

·靜態(tài)反應(yīng)模式下可實現(xiàn)高覆蓋

·帶集成PLC控制的7寸顯示屏 

·終身軟件升級

可供選項

·定制卡盤/底座|臭氧發(fā)生器|QCM(石英晶體微天平)丨瓶加熱件

·為您的瓶子設(shè)計起泡器|額外升級前驅(qū)體加熱管線至185℃ |手套箱集成連接

·通風(fēng)前驅(qū)體外殼|異形腔體定制  |咨詢可定制系統(tǒng)

設(shè)備優(yōu)勢

? 廠家是ALD領(lǐng)域的專家

? 高品質(zhì)組件（半導(dǎo)體級線路、閥門、金屬密封（無水或空氣侵入））

? 可信賴（PLC控制-無需驅(qū)動程序升級，無需附加卡）和可靠（非常容易維護）

? 是為實驗室技術(shù)人員設(shè)計的

? 小而緊湊的（不占空間）

? 小體積室意味著快速沉積和更少的前驅(qū)體廢物和深入滲透到三維結(jié)構(gòu)

? 快速升溫（和降溫）時間

? 化學(xué)物質(zhì)與反應(yīng)物分離，因此不會沉積在管道，閥門等....

? 前驅(qū)體和腔體之間的長度短（減少線路堵塞的機會）

? 操作簡單（150個菜單連同標(biāo)準(zhǔn)配方）

為啥選擇Anric Technology???

世界主流的ALD廠家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，這些大廠專注于工業(yè)化的ALD設(shè)備。

Anric Technology： 專注于小的迷你的、臺式的ALD設(shè)備，操作簡單，維修經(jīng)濟方便，特別適用于科研用戶。

研發(fā)者介紹：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 畢業(yè)于Harvard University，Department of Chemistry，導(dǎo)師Prof. Roy Gordon, 在讀博期間就設(shè)計開發(fā)了幾臺ALD設(shè)備，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期間進行了包括CVD/ALD預(yù)制器的開發(fā)，后出來創(chuàng)辦了Anric Technology，專注于迷你和臺式用于實驗室研究的ALD。