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離子濺射儀的靶材選擇與涂層質(zhì)量關(guān)聯(lián)
2025-12-13 離子濺射儀通過高能離子轟擊靶材表面，實現(xiàn)原子級薄膜沉積。靶材的選擇直接決定涂層的物理化學(xué)性能，需綜合考慮材料特性、工藝參數(shù)及應(yīng)用需求。靶材類型與性能匹配金屬靶材(如Au、Al、Cr)：適用于導(dǎo)電性要求高的場景，如電子封裝和光學(xué)反射膜。合金靶材(如NiCr、TiAl)：通過成分調(diào)控可優(yōu)化涂層硬度(如TiAlN涂層硬度25GPa)或抗氧化性。陶瓷靶材(如SiO?、ZrO?)：用于絕緣層或耐磨涂層，但需注意其脆性可能導(dǎo)致濺射效率下降。靶材參數(shù)對涂層質(zhì)量的影響純度要求：高純度靶材(≥...關(guān)于熱原子層沉積的相關(guān)介紹一起了解下
2025-11-26 TALD通過交替引入兩種或多種前驅(qū)體氣體，在基底表面發(fā)生自限性化學(xué)反應(yīng)，逐層沉積薄膜。每個完整的沉積循環(huán)包含四個步驟：通入第一種前驅(qū)體氣體：使其與基底表面發(fā)生化學(xué)吸附，形成單層吸附。惰性氣體吹掃：去除多余的前驅(qū)體和副產(chǎn)物，避免氣相反應(yīng)。通入第二種前驅(qū)體氣體：與已吸附的第一種前驅(qū)體反應(yīng)，生成單原子層薄膜。再次惰性氣體吹掃：去除未反應(yīng)的前驅(qū)體和副產(chǎn)物，準備下一個循環(huán)。熱原子層沉積通過交替引入兩種前驅(qū)體氣體(如三甲基鋁和水蒸氣)，在基底表面發(fā)生化學(xué)吸附和表面反應(yīng)，形成單原子層。每次...高壓極化儀安全防護機制與絕緣油冷卻系統(tǒng)的可靠性驗證
2025-11-22 高壓極化儀用于對壓電陶瓷、鐵電薄膜等材料施加數(shù)千至數(shù)萬伏直流電場以實現(xiàn)極化，其高電壓操作帶來嚴峻的安全挑戰(zhàn)。因此，完善的安全防護機制與高效的冷卻系統(tǒng)是設(shè)備可靠運行的前提。安全防護機制包括：多重互鎖：艙門開啟自動切斷高壓輸出；接地保護：樣品臺與外殼雙重接地，防止靜電積累；過流/過壓保護：毫秒級響應(yīng)切斷異常電流；電弧檢測：通過高頻噪聲識別早期放電，提前預(yù)警。絕緣油冷卻系統(tǒng)則承擔(dān)兩大功能：電氣絕緣：變壓器油(如礦物油或硅油)耐壓強度30kV/mm，隔離高壓電極；散熱冷卻：極化過程產(chǎn)...顯微成像橢偏儀結(jié)合了橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像技術(shù)
2025-10-31 顯微成像橢偏儀是一種結(jié)合光學(xué)顯微成像與橢偏技術(shù)的儀器，主要用于測量薄膜厚度、折射率、吸收系數(shù)等參數(shù)，并獲取樣品表面的三維形貌分布。顯微成像橢偏儀基于橢圓偏振原理，通過分析入射偏振光經(jīng)樣品反射或透射后的偏振態(tài)變化，結(jié)合光學(xué)顯微成像技術(shù)，獲取樣品表面的三維形貌分布及薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)。過程包括：光源與偏振控制：光源發(fā)出的光經(jīng)起偏器變?yōu)榫€偏振光，再通過補償器調(diào)整為特定偏振狀態(tài)(如橢圓偏振光)。樣品相互作用：偏振光入射到樣品表面，與樣品發(fā)生反射或透射，偏振狀態(tài)因樣品特性(如薄...核心技術(shù)揭秘：離子濺射儀的工作原理與獨特設(shè)計特點剖析
2025-10-18 離子濺射儀是制備高純度、高結(jié)合力金屬/化合物薄膜的核心設(shè)備，其通過離子轟擊靶材實現(xiàn)原子級沉積，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、光學(xué)器件及納米材料領(lǐng)域。理解其工作原理與設(shè)計特點，是優(yōu)化薄膜性能的關(guān)鍵。一、工作原理：離子濺射的核心是“動量轉(zhuǎn)移”。設(shè)備通過氣體放電(通常為氬氣，純度99.999%)產(chǎn)生等離子體(含大量Ar?離子)，在高壓電場(通常-300V至-1000V)作用下，Ar?離子加速轟擊靶材(如金屬鈦、氧化物陶瓷)表面。離子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，將動能傳遞給靶材原子(單個Ar?離...關(guān)注公眾號
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